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Graphitelektrode für Siliziumkarbidofen
Produktbeschreibung
Graphitelektrode für Siliziumkarbidofen
„Graphitelektrode für Siliziumkarbidöfen“ umfasst die Verwendung von Graphitelektroden bei der Herstellung von Siliziumkarbid, einem häufig verwendeten Schleifmaterial, und bei der Herstellung von Keramik, wie z. B. Keramikplatten, Ziegeln und Rohren aus Siliziumkarbid. Sie liefern die Wärme, die zum Brennen der Keramik bei hohen Temperaturen erforderlich ist, was zu hochwertigen und langlebigen Keramikprodukten führt. Sie werden auch im Halbleiterbereich bei der Herstellung von Siliziumkarbid-Wafern und in der Solarindustrie bei der Herstellung von Solarzellen auf Siliziumkarbidbasis eingesetzt.
Produktparameter
Graphitelektrodes Durchmesser und zulässige Abweichung
|
EINHEIT (MM) |
||||
|
Name |
Nenndurchmesser mm |
Tatsächlich Maximal Durchmesser mm |
Tatsächlich Mindestdurchmesser mm |
Nennlänge mm |
|
UHP/HP-Graphitelektrode |
100 |
102 |
107 |
1700/1800/1900/2700 |
|
150 |
152 |
157 |
1600/1800/1900 |
|
|
200 |
205 |
202 |
1600/1800/1900 |
|
|
250 |
256 |
251 |
1600/1800/1900 |
|
|
300 |
307 |
302 |
1600/1800/2000 |
|
|
350 |
358 |
352 |
1600/1800/2000 |
|
|
400 |
409 |
403 |
1600/1800/2000/2200 |
|
|
450 |
460 |
454 |
1600/1800/2000/2200 |
|
|
500 |
511 |
505 |
1800/2000/2200/2400 |
|
|
550 |
562 |
556 |
1800/2000/2200/2400/2700 |
|
|
600 |
613 |
607 |
2000/2200/2400/2700 |
|
|
650 |
663 |
659 |
2000/2200/2400/2700 |
|
|
700 |
714 |
710 |
2000/2200/2400/2700 |
|
|
750 |
765 |
761 |
2000/2200/2400/2700 |
|
Graphitelektrodetechnische Parameter
|
Artikel |
Einheit |
RP |
PS |
UHP |
||||
|
Kleiner oder gleich ∅400 |
Größer oder gleich ∅450 |
Kleiner oder gleich ∅400 |
Größer oder gleich ∅450 |
Kleiner oder gleich ∅400 |
Größer oder gleich ∅450 |
|||
|
Elektrischer Widerstand |
Elektrode |
μΩ*m |
Kleiner oder gleich 8,5 |
Kleiner oder gleich 9.0 |
Kleiner oder gleich 6.0 |
Kleiner oder gleich 6,5 |
Kleiner oder gleich 5.0 |
Kleiner oder gleich 5,5 |
|
Nippel |
Kleiner oder gleich 6,5 |
Kleiner oder gleich 6,5 |
Kleiner oder gleich 5,5 |
Kleiner oder gleich 5,5 |
Kleiner oder gleich 4,5 |
Kleiner oder gleich 4,5 |
||
|
Querkraft |
Elektrode |
MPa |
Größer als oder gleich 8.0 |
Größer als oder gleich 7.0 |
Größer oder gleich 10,5 |
Größer oder gleich 10,5 |
Größer als oder gleich 15.0 |
Größer als oder gleich 15.0 |
|
Nippel |
Größer als oder gleich 16.0 |
Größer als oder gleich 16.0 |
Größer oder gleich 20.0 |
Größer oder gleich 20.0 |
Größer als oder gleich 22.0 |
Größer als oder gleich 22.0 |
||
|
Elastizitätsmodul |
Elektrode |
Gpa |
Kleiner oder gleich 9,3 |
Kleiner oder gleich 12.0 |
Kleiner oder gleich 14.0 |
|||
|
Nippel |
Kleiner oder gleich 14.0 |
Kleiner oder gleich 16.0 |
Kleiner oder gleich 18.0 |
|||||
|
Schüttdichte |
Elektrode |
g/cm3 |
Größer oder gleich 1,54 |
Größer oder gleich 1,65 |
Größer oder gleich 1,68 |
|||
|
Nippel |
Größer oder gleich 1,69 |
Größer oder gleich 1,73 |
Größer oder gleich 1,76 |
|||||
|
Koeffizient der thermischen Ausdehnung (100 Grad﹣600 Grad) |
Elektrode |
100-6/ Grad |
Kleiner oder gleich 2,5 |
Kleiner oder gleich 2.0 |
Kleiner oder gleich 1,5 |
|||
|
Nippel |
Kleiner oder gleich 2.0 |
Kleiner oder gleich 1,6 |
Kleiner oder gleich 1,2 |
|||||
|
Asche |
Prozent |
Kleiner oder gleich 0.3 |
Kleiner oder gleich 0.2 |
Kleiner oder gleich 0.2 |
||||
Herstellungsprozess für Graphitelektroden
Anwendungen
Herstellung von Siliziumkarbid: Bei der Herstellung von Siliziumkarbid werden Graphitelektroden und Schleifmittel verwendet. Bei diesem Verfahren wird eine Mischung aus Silizium und Kohlenstoff in einem Ofen erhitzt, wobei Graphitelektroden als Heizelement verwendet werden.
Herstellung von Keramik: Bei der Herstellung von Keramik werden üblicherweise Graphitelektroden verwendet, beispielsweise Siliziumkarbid-Keramikplatten, Ziegel, Rohre usw. Sie liefern die zum Brennen der Keramik bei hoher Temperatur erforderliche Wärme und erzeugen so hochwertige und langlebige Keramikprodukte.
Halbleiterindustrie: Sie werden auch in der Halbleiterindustrie zur Herstellung von Siliziumkarbid-Wafern verwendet. Aufgrund ihrer hohen Wärmeleitfähigkeit, hohen Durchbruchspannung und Hochtemperaturbeständigkeit werden die Wafer bei der Herstellung von Leistungselektronik, beispielsweise Wechselrichtern und Konvertern, eingesetzt.
Solarindustrie: Graphitelektroden werden in der Solarindustrie zur Herstellung von Solarzellen auf Siliziumkarbidbasis verwendet. Diese Zellen wandeln Sonnenenergie hocheffizient in Elektrizität um und werden häufig in Solarmodulen verwendet.
Verpackung und Versand
Fertige Graphitelektroden werden nach Kundenwunsch verpackt, per Container oder LKW versendet und mit einem perfekten After-Sales-Service versehen.
FAQ
1. Sind Sie Hersteller oder Händler?
Wir sind Hersteller, wir haben unsere eigene Fabrik.
2. Wann erhalte ich den Preis?
Normalerweise geben wir innerhalb von 8 Stunden nach Erhalt Ihrer detaillierten Anforderungen, wie Größe, Menge usw., ein Angebot ab. Wenn es sich um eine dringende Bestellung handelt, können Sie uns direkt anrufen.
3. Wie sieht es mit der Vorlaufzeit für Massenprodukte aus?
Die Vorlaufzeit basiert auf der Menge und beträgt etwa 7-12 Tage. Für Graphitprodukte ist eine Lizenz für Dual-Use-Artikel erforderlich, die etwa 15-20 Arbeitstage erfordert.
4. Wie lauten Ihre Lieferbedingungen?
Wir akzeptieren FOB, CFR, CIF, EXW, DAP, DDP usw. Sie können den für Sie bequemsten Weg wählen. Darüber hinaus können wir auch per Luft- und Expressversand versenden.
5. Stellen Sie Muster zur Verfügung?
Ja, Muster sind für Sie verfügbar.
6. Produktverpackung?
Wir verpacken in Holzkisten oder nach Ihren Wünschen.
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